스템코

STEMCOの保有技術

STEMCOの保有技術

Reel to Reel 技術

  • Punch装置

  • めっき装置

Fine Pattern

- Etching Process
min.18㎛ Pitch (MP)
min.16㎛ Pitch (開発中)
- Semi Additive (1-Metal & 2-Metal)
min 18㎛ Pitch (MP)
min 14㎛ Pitch (ER)

Fine Pattern 推移

自動検査技術

Camera 画像度 : 1.5㎛/pixel, 2.0㎛/pixel

両面基板技術