技術概要及び動向 世界ディスプレイ市場のリーディングカンパニー、STEMCO STEMCOの保有技術 TCP 概論 STEMCOの保有技術 STEMCO核心保有技術 STEMCOの保有技術 STEMCOの保有技術 Reel to Reel 技術 Punch装置 めっき装置 Fine Pattern - Etching Process min.18㎛ Pitch (量産) min.16㎛ Pitch (開発) - Semi Additive (2Metal) min.18㎛ Pitch (量産) min.16㎛ Pitch (開発) Fine Pattern 推移 自動検査技術 Camera 画像度 : 1.5㎛/pixel, 2.0㎛/pixel 両面基板技術
STEMCOの保有技術 STEMCOの保有技術 Reel to Reel 技術 Punch装置 めっき装置 Fine Pattern - Etching Process min.18㎛ Pitch (量産) min.16㎛ Pitch (開発) - Semi Additive (2Metal) min.18㎛ Pitch (量産) min.16㎛ Pitch (開発) Fine Pattern 推移 自動検査技術 Camera 画像度 : 1.5㎛/pixel, 2.0㎛/pixel 両面基板技術
STEMCOの保有技術 Reel to Reel 技術 Punch装置 めっき装置 Fine Pattern - Etching Process min.18㎛ Pitch (量産) min.16㎛ Pitch (開発) - Semi Additive (2Metal) min.18㎛ Pitch (量産) min.16㎛ Pitch (開発) Fine Pattern 推移 自動検査技術 Camera 画像度 : 1.5㎛/pixel, 2.0㎛/pixel 両面基板技術