· 다양한 금속 종류(Cu, Ni, Invar, SUS外)에 적용 가능한 에칭액 및 에칭기술
· 고객 요구 사양 맞춤형 설계 기술 (Photo Mask 설계, Etching Factor 제어, 형상 제어)
· 박판/후판 소재(30~100㎛)의 초박판화(10~20㎛) Uniformity 제어 기술
· 광폭(Max. 500mm) Roll to Roll 균일 Etching 기술
· 박판(Min. 10㎛) 금속 응력 제어 기술
· 자동검사가능(자체 불량판정 기술 보유)